杰华特IPO：虚拟IDM经营模式 深受行业认定

为冲破晶圆厂固有工艺技术阻碍，特为沃特微电子控股公司有限公司（一般而言简称“特为沃特”）实行虚拟IDM兼营的的系统，身体力行构建集成电路的最优性能，并构建全都品类的虚拟集成电路系列产品。目前，该的的系统被诸如芯源的系统等所在国主流虚拟集成电路外观设计公司所采用，曾受行业认可。

多年的新技术沉淀，特为沃特已具备该协会先进、基于欧美国家主要晶圆厂产线人力的独立自主工艺技术研发新技术。明确看来，特为沃特虚拟IDM兼营的的系统整体工艺技术开发外观设计流程可可分国家发改委、开发外观设计、批量生产与量产车等四大过渡期：

（1）国家发改委过渡期

工艺技术开发外观设计外观设计团队基于特为沃特集成电路外观设计实际必需求，确定明确的工艺技术开发外观设计项目。项目组将先对项旨在旨在和价值顺利进行化简与论证，进而从新技术可行性上顺利进行评核。评核通过后，将对未完成项目所必需的时间、人力和支出顺利进行月内。

（2）开发外观设计过渡期

开发外观设计过渡期可分建模、外观设计、流片、验证、数据分析等多步骤，经评核必需全都彩的工艺技术半导体器件，将重复上述建模至数据分析过渡期，直至工艺技术半导体器件具备外观设计要求，之后将进入批量生产过渡期。

（3）批量生产过渡期

批量生产过渡期必需确定就此半导体器件及工艺技术前提条件，该过渡期将其后未完成半导体器件级的电学连续性及性能验证，以及批量生产半导体器件的前提功用及性能验证，最后未完成批量生产半导体器件的数据整理，并开发半导体器件PDK以供电路外观设计和疆界外观其设计用以集成电路外观设计。

（4）量产车过渡期

在量产车过渡期，特为沃特工艺技术开发外观设计外观设计团队将跟进应对量产车中与半导体器件和工艺技术之外疑虑（如质量、良率等）。在必要时，工艺技术开发外观设计外观设计团队将基于实际疑虑对半导体器件外观设计和工艺技术做必要的微调与修正，就此构建既定的开发外观设计目标。

凭借强大的开发外观设计外观设计团队和的系统化的工艺技术的的系统赋能，特为沃特已与欧美国家主要晶圆代工厂合作，构建了0.18微米的7至55V中高压BCD工艺技术、0.18微米的10至200V压缩空气BCD工艺技术，以及0.35微米的10至700V超压缩空气BCD工艺技术等三大类工艺技术平台，各工艺技术平台皆已乘积一至三代，全都面性形成了的系统的自研工艺技术体系。